作为半导体产业的核心材料，光阻剂竟如此重要？

与非网 9 月 30 日讯，台积电今年初发生光阻剂事件，近月又有日本管控对韩国关键半导体材料出口，当中也出现光阻剂，这市场规模只有不到 20 亿美元的产业，但却成为半导体产业重要的核心材料。

光阻，亦称为光阻剂，是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。

光阻有两种，正向光阻(positive photoresist)和负向光阻(negative photoresist)
正向光阻：其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。
负向光阻：其照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。

光阻剂是光刻过程的关键核心材料，质量能直接决定 IC 产品的性能、良率。伴随着晶圆代工进入先进制程，其所需光阻剂分辨率的提升及多次图形化技术的应用，带动光阻剂的成本比重及市场规模将不断上升。

进入到 5G 世代，芯片整合逐渐提升，配合半导体产品小型化、功能多样化的要求，不断透过缩短曝光波长提高极限分辨率，进而达到 IC 电路更高密度的结合，因此光阻剂的成长也不断在进化。

与非网整理自网络