半导体前道CMP耗材供应商列表

半导体前道材料是目前半导体投资领域的又一个热门话题。不过它的种类繁多，可谓是五花八门。仅仅一个CMP领域里也用到了好多种，而且供应商也各不相同

之前我就已经发布过几个版本的数据了。不过后来又有行业朋友指点我还有不少重要的分类需要补充

目前我整理的数据里，CMP工艺环节用到的主要耗材有：

研磨液：Slurry
研磨垫：Pad
清洗液：pCMP Clean修正盘：Conditioner （这个是用来保持研磨垫表面粗糙度的一个金刚石研磨盘）
过滤器：Filter
保持环：Retaining Ring （固定晶圆用的一种工程塑料制品）清洁刷：Brush
吸附膜：Membrane

其中后面三个品类应该是我这一版里新增的。麻烦大家参考的同时，也帮忙确认一下。如果发现任何问题，欢迎和我交流，或者在公众号里留言谢谢了

注）上面的表格中，有些公司的名字可能产生歧义，所以我在最后做个补充说明，避免大家误解TWI: Thomas West AGC: Ashahi Glass Resonac力森诺科: Showa Denko 昭和电工 更名