3D堆叠

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  • 国产AI芯片,进击3D堆叠
    AI大模型的快速发展带来了存储与带宽的需求激增,而当前的2.5D封装技术面临平面扩展局限,集成密度和互连带宽逼近极限。为此,3D堆叠技术成为提升性能和集成密度的有效途径。国际巨头如AMD、博通和英特尔已经成功将3D堆叠和3.5D封装技术应用于量产,展示了其在提升算力和降低功耗方面的潜力。 在国内,紫光集团、清微智能、算苗科技和云天励飞等厂商也积极采用3D堆叠技术,探索通过垂直集成存储单元和计算单元来突破“内存墙”。然而,3D堆叠技术在工程化实施过程中面临着热管理、混合键合工艺、EDA工具支持、测试与可靠性以及供应链等方面的挑战。因此,虽然3D堆叠技术展现出巨大潜力,但仍需克服诸多技术难题才能真正实现大规模量产。
  • 三星GAA垂直架构:全球首个42nm栅极间距3D堆叠晶体管问世
    三星展示了栅极间距为42纳米的三维堆叠场效应晶体管(3D Stacked FETs),获得VLSI研讨会高评分并被评为最佳论文。此技术采用三层堆叠的纳米片通道,垂直堆叠n型和p型FET,显著提升集成密度,为未来逻辑和SRAM技术铺路。
    三星GAA垂直架构:全球首个42nm栅极间距3D堆叠晶体管问世
  • 从“韬(τ)定律”到异构集成时代的新工具链,国产EDA前沿布局的特色发展路径
    近期,半导体产业界围绕“τ定律”(韬定律)展开热议。与摩尔定律聚焦晶体管密度每18个月翻倍不同,τ定律更强调在系统层面通过时间维度的微缩——即芯片内数据传输与处理的时间延迟优化——来持续提升整体性能。而实现这一目标的关键路径之一,正是2.5D、3D等先进封装技术。通过将不同工艺、不同功能的芯粒(Chiplet)在垂直或水平方向紧密集成,芯片可以在不依赖极致制程微缩的情况下,获得更高的带宽、更低的延
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    06/02 13:13
    从“韬(τ)定律”到异构集成时代的新工具链,国产EDA前沿布局的特色发展路径
  • 先进封装 重新定义摩尔定律 -Intel 揭秘 3D 堆叠与Super Stack如何延续摩尔定律?
    Intel院士发布《先进封装:重新定义摩尔定律》,强调先进封装是延续摩尔定律的关键路径,并详细阐述了2.5D EMIB、3D Foveros、混合键合、玻璃基板、cKGD测试等关键技术及其面临的量产痛点。报告指出,供电、散热、工艺、量测、测试生态必须同步革新,才能推动先进封装从实验室走向大规模量产。
  • 3D芯片堆叠封装技术详解 微凸块与混合键合工艺对比
    3D芯片堆叠技术通过垂直堆叠多层芯片并互连,突破传统2D集成电路的局限。封装阶段的3D堆叠方案受到重视,尤其是混合键合技术的应用,减少了底部填充的需求,提高了散热效率。然而,混合键合对微尘颗粒物敏感,且对晶圆减薄工艺提出了更高的TTV和翘曲控制要求。此外,3D架构下的热传递成为物理瓶颈,需要更高效的散热解决方案。
    3D芯片堆叠封装技术详解 微凸块与混合键合工艺对比