• 微透镜面形精度工艺异常依托白光干涉仪快速溯源整改、
    一、行业工艺痛点 微透镜是光学成像、光伏聚光、传感模组的核心微型光学元件,其面形精度(Surface Figure)直接决定光学系统透光率、聚焦精度与成像品质。量产注塑、光刻、热熔成型工艺中,易出现面形畸变、曲率偏差、表面波纹、局部塌陷等工艺缺陷。传统显微观测、轮廓仪仅可采集二维数据,无法识别微纳级面形误差,难以精准定位异常成因,存在产品不良率高、工艺调试周期长、量产成本偏高的行业痛点。 二、白光
  • 白光干涉仪在钙钛矿电池激光刻蚀制程质控中的精密检测应用
    一、钙钛矿电池激光刻蚀制程核心质控痛点 激光刻蚀是钙钛矿电池模组串并联结构制备的核心工序,P1、P2、P3多级沟槽的纳米级深度精度,直接决定电池刻蚀品质、膜层绝缘性与光电性能。量产过程中,激光能量波动、设备台面偏差易导致沟槽深度不均,引发膜层残留、基底过度刻蚀、漏电率升高等问题,是制约电池量产良率与性能稳定性的关键因素(溯源EPJ Photovoltaics、光伏行业公开工艺白皮书)。 传统接触式
  • 横河功率分析仪效率测试大于1可能的原因及应对措施 科瑞杰
    可能的原因及应对措施1 出现原因 电压、电流传感器的选择不合理。 应对措施 在选择电压和电流传感器的时候,要重点考虑传感器的量程、带宽和精度,尽可能选择高精度高带宽的传感器,并且使用量程和被测值尽可能接近的传感器才能实现精确的测量。 可能的原因及应对措施2 出现原因 数据更新率的选择过快。 应对措施 如果遇到效率波动比较剧烈的情况,建议可以将数据更新率调长,增加数据运算的时间,这样测试的数据会相对
  • 微透镜阵列排布间距 (Array Pitch) 异常管控:白光干涉仪量产工艺调控方案
    一、工艺痛点与传统检测局限 微透镜阵列排布间距(Array Pitch)是决定匀光、光束匹配、光学耦合性能的核心几何参数,其排布一致性直接影响半导体光学器件的成品性能与良率[1][4]。在模压、纳米压印、注塑量产过程中,模具对位偏差、基材拉伸形变、压印压力不均、固化收缩差异等因素,极易引发阵列间距偏移、排布不均、局部错位等异常问题[3]。间距超差会造成光束阵列紊乱、匀光失效、模组耦合异常,最终导致
  • 白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用
    一、工艺痛点:激光划槽深度对钙钛矿组件性能的核心影响 钙钛矿光伏组件P1、P2、P3激光划槽是薄膜串联成型的核心工序,划槽深度、槽体形貌直接决定膜层刻蚀质量与子电池串联效果,是管控组件光电转换效率、量产一致性的核心工艺指标。 根据光伏工艺研究结论,各工序划槽深度具备严格工艺阈值:P2划槽需完全去除功能膜层,同时杜绝底层ITO基底损伤,深度偏差会直接引发层间残留、基底损伤、短路漏电等缺陷,造成组件填
  • 金相显微镜:Bamtone M系列大幅提升检测效率
    金相显微镜作为材料科学、冶金学、半导体和精密制造等领域的关键分析工具,其全球市场竞争激烈且技术门槛高。传统巨头长期占据主导地位,但近年来,随着中国在高精度制造和检测技术上的突破,以班通科技为代表的国内企业正以创新产品重塑市场格局,成为行业TOP玩家。 全球金相显微镜市场Top10概览 蔡司(Zeiss) - 德国光学巨头,以超高分辨率和成像精度著称,在高端科研市场占据领导地位。 徕卡(Leica)
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    1小时前
    pcb
  • 基于白光干涉仪的超光滑样品微观形貌表征与工艺异常溯源研究
    一、研究概述 超光滑光学样品是精密光学、半导体、激光器件等高端产业的核心基材,其表面纳米级粗糙度、微观形貌及微结构缺陷,直接影响器件光学透过率、镀膜品质与使用寿命。传统接触式轮廓仪、普通显微检测设备存在表面易损伤、分辨率不足、无法三维全域表征等短板,难以识别微纳级划痕、凹坑、波纹等隐性工艺缺陷,导致半导体制程异常无法精准溯源。 白光干涉仪(WLI)依托宽光谱白光干涉原理,具备非接触、无损、超高精度
  • GMSL + 硬件PTP方案,真能让ADAS路测告别“数十毫秒偏差”吗?
    一、工程痛点  在ADAS 路测数据采集中,多传感器时间对齐是影响数据可用性的核心工程问题。相机与激光雷达的时间戳偏差直接影响多传感器融合精度。偏差越大,目标位置投影误差越显著,在高速场景下尤为突出;一旦超出,感知融合结果将出现系统性偏移,数据无法进入训练集。 实际工程中,问题常集中在以下三个方面: 时间戳精度:图像数据从相机曝光到主机软件层接收,经历序列化、GMSL2 传输、反序列化、以太网传输
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    1小时前
  • WT5000功率分析仪可以同时测量单个输入信号的两个频率(如基波和载波)
    科瑞杰-横河WT5000高精度功率分析仪的频率滤波器除低通滤波外,同时支持高通滤波,可以有效去除低频干扰对基波的影响。 高级设置关闭时,高通滤波器固定为打开,截止频率为0.1Hz。 开启高级设置后,除了高通和低通滤波器以外,还可以设置整流信号源和零交叉电平,同时测量同一信号的基波频率和载波频率。对于叠加在直流偏置信号上的交流信号,即使没有过零点,仍然可能通过设置高通滤波器测量到该交流信号的频率。
  • 横河WT5000高精度功率分析仪高级线路滤波器设置 科瑞杰
    科瑞杰-在功率测量中常常需要用到滤波器,但是很多用户对于横河功率分析仪WT5000中两种滤波器的区别以及设置方法常常会感到疑惑。本文我们将对WT5000的线路滤波器(Line Filter)和频率滤波器(Frequency Filter)的区别和各自的作用,以及WT5000的高级滤波功能进行详细介绍。 什么是滤波器? 滤波器是一种选频装置,可以使信号中特定的频率成分通过,而极大地衰减其他频率成分。
  • 白光干涉仪排查微透镜成型制程曲率半径偏差隐患解决方案
    一、行业制程痛点与检测需求 微透镜及微透镜阵列是光电成像、光纤耦合、光传感、半导体光学系统的核心精密元件,曲率半径作为其核心几何参数,直接决定元件聚焦性能与成像质量,其检测精度需符合国标及国际光学检测规范要求。 在热回流、光刻注塑等主流成型制程中,材料固化收缩、加工温度波动、模具轻微磨损等工艺问题,易导致微透镜曲率半径偏移、面形畸变、表面粗糙度超标等隐性缺陷。微小参数偏差会引发光束发散异常、成像模
  • 白光干涉仪高精度检测技术 严控光伏激光划线深度与薄膜分层良率
    一、光伏量产检测痛点 薄膜光伏量产的核心工序为P1/P2/P3激光结构化划线,是实现电池单片互联的关键工艺。光伏薄膜为多层堆叠结构,生产过程中易出现划线深度异常、膜层剥离不均、沟槽侧壁残缺等缺陷,进而引发组件漏电、界面接触电阻升高、膜层分层脱落等问题,直接降低电池填充因子与量产良率,制约光伏规模化量产落地。 传统检测依赖台阶仪单点抽检模式,存在检测效率低、覆盖范围有限的短板,无法识别薄膜微观分层、
  • 横河AQ6374光谱分析仪 空间光接口,耦合效率高,适应性强
    科瑞杰-医疗设备检定机构需要对所有即将上市的器械与设备进行检测,确定设备的各项参数是否符合国家标准和误差要求。 当前,医疗设备中涉及到激光器的产品越来越多,而且涵盖的波长范围也非常广。检定机构需要一套专门用于激光设备或者亮度较低光源的光波测试系统,用以测量其光谱参数。 同时,由于设备检定检测工作的特殊性和待测设备光谱的广泛性,亟需波长范围更大,性能更高的光波测量仪表。 01医疗设备 目标行业 02
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    05/29 08:55
  • 横河VZ20X-汽车电子环境可靠性测试解决方案
    科瑞杰-随着汽车产业与电子信息技术的加速融合,电控单元、多媒体电子、车载电子等设备越来越多,也使得车辆的复杂程度不断加大。汽车电子产品的可靠性直接关系到整车的安全性能。汽车电子产品在不同的环境中的可靠性成为衡量汽车安全性能的重要指标,汽车电子的应用环境包括电磁环境、电气环境、气候环境、机械环境、化学环境等等。国际化标准组织中ISO、TC22、SC3等标准负责汽车电气和电子技术领域的标准化工作。 I
  • 横河功率分析仪WT1800E为何出现读数相对于正常测量值相差数倍?
    参数出现“---OL---”,没有读数 出现原因: 此情况是过载值的提示,功率分析仪表示当前我们使用的电压或者电流量程档位跟实际输入不相符,需要对量程进行调整. 应对措施: 将电压/电流量程设置为更高量程档或者自动量程档。 更多: 电流输出型的电流传感器:当变比都能换算成***A:1A。二次侧输出是电流时,都是电流输出型的电流传感器,比例设置在Scaling里。 电压输出型的电流传感器:当变比都能
  • 横河功率分析仪出现电压电流测量值都正确,但是功率值不正确的原因及应对措施
    可能的原因及应对措施1 出现原因: 接线方式设置跟实际不相符,变比中功率倍数SF是否设置正确. 应对措施: 将接线方式设置为正确的接线方式,功率倍数SF一般情况下默认为1。 可能的原因及应对措施2 出现原因: 接线方式错误,没有按照接线图进行正确的接线,尤其时3P3W(3V3A)的接法。 应对措施: 按照所选择的接线方式进行正确的接线,比如3P3W(3V3A)的接线中,首先要确定好U、V、W三相,
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    05/29 08:43
  • 横河功率计谐波测试结果不显示或者显示不正确可能的原因及解决方案
    可能的原因及应对措施1 出现原因: 不同的功率分析仪对信号进行谐波分析的能力各不相同,所以要清楚所使用的功率分析仪能测量的基波频率范围,因为一旦被测信号基波频率超出了仪器能够测量的范围那么就不会显示。 应对措施: 正确了解所使用的仪器的性能参数。 可能的原因及应对措施2 出现原因: PLL源的选择可能不正确。 应对措施: 合理选择PLL源。PLL源尽量选择接近正弦波的波形。也可以打开频率滤波器来实
  • 金相显微镜和光学显微镜有什么区别?
    在科学研究和工业检测领域,显微镜是不可或缺的工具。许多人常常将“金相显微镜”和“光学显微镜”混为一谈,但实际上它们是两种设计原理、应用领域各不相同的仪器。本文将以现代金相显微镜的代表之一——Bamtone M系列金相显微镜为例,深入解析这两种显微镜的关键区别。 一、核心原理: 普通光学显微镜(通常指生物显微镜)采用透射照明原理。光线从标本下方穿透透明的样品(如细胞切片、组织薄片),经过物镜和目镜系
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    05/28 16:02
    pcb
  • 白光干涉仪高精度表征下超光滑样品表面瑕疵与工艺误差关联性研究
    一、研究背景与检测技术优势 超光滑样品是极紫外光学元件、半导体晶圆、高能激光器件等高端领域的核心基材,其表面微观划痕、麻点、凹凸缺陷及全域面形误差,会直接降低光学成像精度、缩短器件服役寿命,是精密加工质控的核心管控指标[1]。抛光、研磨、镀膜等制程中,耗材杂质、工艺参数失配、环境扰动等误差,是诱发超光滑表面微观瑕疵的主要诱因。 传统检测方式存在明显技术短板:接触式探针易损伤超光滑表层;原子力显微镜
  • 功率分析仪在AI数据中心电力基础设施中的核心作用 科瑞杰
    科瑞杰-在理解了供电网络的物理架构与通信架构之后,我们需要进一步明确,这样一个复杂而精密的系统究竟需要满足哪些具体的技术要求,以及如何通过测试手段来验证其是否达标。 AI数据中心对供电网络的高规格要求 如下图所示,为支撑AI服务器的高算力运行,供电网络需在架构、监控和测试方面满足以下核心要求: AI数据中心对供电网络及电能测试的要求 ·高功率密度与大容量承载 核心需求:满足AI服务器内高算力组件(
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    05/28 11:22

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