工艺库研究之40nm单元库中有哪些layer
在40nm节点的主流低功耗平台上,常见的物理层包括PO、VTUL、VTL、VTH、CO、M1至M7、VIA1至VIA6、RV、RDL、AP、OVERLAP和bump等。其中,PO层定义栅极几何形状;VTUL和VTL层用于低阈值器件的沟道掺杂;VTH层用于高阈值器件;CO层实现硅和poly的垂直电连接;M1至M7层分别负责不同层次的铜互连;VIA1至VIA6层作为信号路径的通孔;RV和RDL层用于顶层铝焊盘的信号/电源引出;AP层用于天线效应防护;OVERLAP层作为虚拟标记层;bump层则为flip-chip IO/pad库提供焊球落点参考。